DSpace  
 

Электронная библиотека >
Диссертации и авторефераты диссертаций >
Авторефераты диссертаций >

Идентификатор документа - используйте, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: http://dep.nlb.by/jspui/handle/nlb/28013

Заглавие: Многомерное моделирование имплантационных и твердофазных диффузионных процессов в технологии микроэлектроники методом молекулярной динамики и в континуальном приближении
Автор(ы): Нелаев Владислав Викторович
Ответственные лица и организации: Белорус. гос. ун-т информатики и радиоэлектроники
Ключевые слова: КРИСТАЛЛОГРАФИЯ
КРИСТАЛЛОФИЗИКА
ПРИМЕСИ
ДИФФУЗИЯ
МОЛЕКУЛЯРНАЯ ФИЗИКА
МОЛЕКУЛЯРНАЯ СТРУКТУРА
МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
КРЕМНИЕВЫЕ СТРУКТУРЫ
КРЫШТАЛЯГРАФІЯ
КРЫШТАЛЯФІЗІКА
ДЭФЕКТЫ
ДЫФУЗІЯ
МАЛЕКУЛЯРНАЯ СТРУКТУРА
МІКРАЭЛЕКТРОНІКА
ПАЎПРАВАДНІКІ
КРЭМНІЕВЫЯ СТРУКТУРЫ
ДЕФЕКТЫ
ПОЛУПРОВОДНИКИ
ПРЫМЕСІ
МАЛЕКУЛЯРНАЯ ФІЗІКА
Дата публикации: 2001
Описание: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д-ра физ.-мат. наук
05.27.01
Рез. парал.: рус., белорус., англ
Библиогр.: c. 25-35 (95 назв.).
Индекс УДК: 548.4(043.3)
621.382.049.77.002(043.3)
Номенклатура специальности: 05.27.01
Находится в коллекции:Авторефераты диссертаций

Файлы документа:

Файл Описание РазмерФормат
default.html116 BHTMLОткрыть

Все документы в электронной библиотеке защищены авторским правом.

 

Valid XHTML 1.0! Программное обеспечение DSpace Copyright © 2002-2010  Duraspace - Обратная связь